2-нм чипы становятся ближе: японская компания Rapidus получила первый сканер EUV-литографии от ASML

Японская полупроводниковая компания Rapidus рассчитывает начать массовое производство 2-нм полупроводниковой продукции по заказу различных клиентов к 2027 году. Компания ожидает, что прототипы продуктов этого класса будут запущены в производство уже в апреле следующего года. С этой целью компания приступила к сборке литографического оборудования ASML, которое уже получает через аэропорт на острове Хоккайдо.

Как сообщает DigiTimes со ссылкой на японские СМИ, компания Rapidus на этой неделе провела символическую церемонию получения первого литографического сканера ASML Twinscan NXE:3800E EUV — сверхжесткого ультрафиолетового излучения. Такое оборудование используется при производстве 2-нм чипов и является первым, поступившим в Японию для использования в производстве полупроводниковых компонентов.

Компания не уточнила, сколько таких систем получит Rapidus, чтобы начать пилотное производство 2-нм чипов к апрелю 2025 года, но дала понять, что одной-двух будет недостаточно. Каждая система транспортируется в нескольких крупных контейнерах, весит в собранном виде 71 тонну и имеет высоту 3,4 метра. Установка такого оборудования предполагает хорошую защиту от сейсмических воздействий, что весьма актуально для Японии.

По словам представителей Rapidus, подготовка к освоению производства 2-нм чипов идет по плану. Компания отправила на обучение в США около 150 технических специалистов, которые набираются опыта в IBM. К моменту начала пилотного производства 2-нм чипов в апреле следующего года в компании будет работать 300-400 сотрудников. Rapidus рассчитывает получить ASML-оборудование, необходимое для начала пилотного производства 2-нм чипов к концу этого года.