Intel 18A — Обзор новой литографии для процессоров Panther Lake. Повышение энергоэффективности благодаря RibbonFET и PowerVia

В Интернете ходило множество сообщений и слухов о литографии Intel 18A, зачастую противоречивых. Однако теперь Intel официально представила эту технологию, подтвердив большинство своих предыдущих прогнозов о приросте производительности и повышении энергоэффективности. Новый процесс должен стать одним из ключевых этапов стратегии восстановления позиций компании на рынке полупроводников. Итак, давайте проверим, что именно подготовила Intel и какие новые возможности привносит процесс 18А.

Литография Интел 18А заключается в обеспечении до 15% повышение производительности вычислений или даже 25% более высокая энергоэффективность по сравнению с процессом Интел 3. Важно отметить, что, несмотря на внедрение новых технологических решений, себестоимость продукции остается лишь немного выше от предыдущего поколения.

Intel Panther Lake — Официальный анонс новых процессоров для ноутбуков. Cougar Cove, Darkmont и Xe3 на борту

В литографии Intel 18A используется современная конструкция транзисторов RibbonFET (эквивалентная архитектуре GAA — Gate-All-Around) и нижняя система питания PowerVia, разработанная Intel — видимая в нижней части системы, под IHS. Это первое в мире использование подобного решения при производстве процессоров. Технология PowerVia позволяет увеличить плотность упаковки логических схем примерно на 10% и снизить падение напряжения между источником питания и транзисторами на 30%, что приводит к значительному повышению энергоэффективности. Кроме того, PowerVia упрощает производственный процесс — количество необходимых литографических масок сократилось на 44%, а количество экспозиций — на 42%. В результате, хотя использование питания снизу чипа и порождает более высокие затраты, они компенсируются уменьшением технологических габаритов и упрощением производственного процесса.

Intel Panther Lake — обзор микроархитектуры Cougar Cove и Darkmont, а также улучшения для Thread Director

Intel объявляет, что процесс Intel 18A обеспечивает более высокие тактовые частоты и до 15% лучшую производительность на ватт по сравнению с процессом Intel 3 (~ 4/5 нм). При сохранении той же производительности новая литография позволяет снизить энергопотребление до 25%. Компания также представила график, демонстрирующий значительное снижение количества дефектов в процессе 18А, хотя реальные масштабы улучшения оценить сложно, поскольку график не содержит ни масштаба, ни числовых значений. Стоит добавить, что Intel 18A использует машины Low-NA EUV, а его преемник — Intel 14A — будет использовать технологию High-NA EUV. В настоящее время производство литографических систем Intel 18A осуществляется на двух заводах в Аризоне.

Источник: Чистый ПК