Китайские инженеры предположительно повредили литографическую машину ASML DUV во время попытки обратного проектирования.
Экспортные ограничения, введенные США и Нидерландами, лишили китайские заводы по производству микросхем передового оборудования EUV, оставив им доступ только к старым, но все еще полезным системам DUV. По неофициальным данным, отчаяние в приобретении технологических знаний могло привести к инциденту, который проливает новый свет на методы, используемые китайскими производителями в стремлении к технологической самодостаточности.
Неофициальные сообщения указывают на то, что китайские инженеры повредили литографическую машину ASML DUV при ее демонтаже, что свидетельствует об отчаянной попытке приобрести передовые полупроводниковые технологии.
SK hynix станет первой компанией, которая будет коммерчески использовать литографию High-NA EUV ASML для производства DRAM нового поколения.
По информации, опубликованной The National Interest, китайские инженеры якобы пытались провести реверс-инжиниринг литографической машины ASML DUV. При демонтаже одной из старых систем устройство было повреждено, что побудило китайскую сторону вызвать специалистов ASML для его ремонта. Когда на место прибыли голландские специалисты, они быстро определили, что авария не случайна. Машина была повреждена в результате попытки ее разобрать и собрать заново. Источник этих сообщений не был официально подтвержден ASML, и компания не давала публичных комментариев по этому поводу. Попытка реконструировать литографическую машину — задача необычайной сложности. Системы DUV ASML состоят из тысяч точных подсистем, требующих калибровки на нанометрическом уровне, и имеют передовое программное обеспечение и механизмы управления, о которых знают только инженеры производителя. Разборка такого устройства без полной документации и знания процедур испытаний практически гарантирует необратимые повреждения. Это можно сравнить с попыткой собрать швейцарские механические часы, рассмотрев их механизм через увеличительное стекло, без инструкций и специализированных инструментов.
Университет Чжэцзян представляет прецизионную машину для электронно-лучевой литографии с нормой 0,6 нм в качестве альтернативы технологии ASML EUV
Для пользователей и технологической отрасли этот инцидент подтверждает фундаментальную истину о том, что современное производство полупроводников опирается на глобальные цепочки поставок и взаимозависимости, которые невозможно легко воспроизвести даже при наличии огромных финансовых ресурсов. Попытки Китая достичь технологической самодостаточности наталкиваются на препятствия не только в виде санкций, но и в виде накопленных десятилетиями инженерных знаний. В долгосрочной перспективе это может означать длительный технологический разрыв между китайскими и западными производителями микросхем, что повлияет на доступность и цены на передовые интегральные схемы в электронных устройствах по всему миру. С другой стороны, санкционное давление может ускорить инновации в альтернативных подходах к литографии, таких как электронно-лучевая технология, разрабатываемая Чжэцзянским университетом.
Источник: The National Interest, Wccftech.
