Китайские ученые создали сложный твердый лазер для полупроводниковой литографии Duv
Китайские ученые создали компактную твердую лазерную систему, которая генерирует когерентный свет 193 нм. Это изобретение обещает прорыв в полупроводниковой литографии и других технологических областях.
Лазеры, работающие в глубоком ультрафиолетовом регионе (Духовный) с высокой энергией фотонов и коротких длин волн используется в полупроводниковой литографии, спектроскопия с высоким разрешением, точностью (высокий) Обработка материалов и квантовых технологий. Они характеризуются высокой когерентностью и низким потреблением энергии по сравнению с сексуальными или газовыми расходами, т.е. С возможностью создания компактных установок.
Китайские ученые добились значительного прогресса и сделали компактную твердую лазерную систему, способную генерировать когерентный луч 193 нм, согласно отчету, опубликованному в рецензированном научном журнале Advanced Photonics Nexus.
Эта длина волны имеет решающее значение для полупроводниковой литографии — процесса моделей гравюрных комплексов на кремниевых пластинах, которые лежат в основе современной электроники.
Лазерная система работает с повторением импульсов 6 кГц, использует кристаллический усилитель YB: YAG (Алюминиевый гранат, сплав с итерти) и производит 1030 нм лазер. Луч разделен на две части: одна проходит через нелинейный кристалл, где он подвергается генерации четвертой гармоники, чтобы получить луча 258 нм и выход 1,2 Вт. Вторая часть действует на оптическом параметрическом усилителе для генерации лазера 1553 нм и 700 мВт. Затем они объединяются в каскадном LBO (литий -дань — lib₃o₅) Кристаллы и 193 нм лазер, который достигает средней силы 70 МВт с шириной линии ниже 880 МГц. Перед смешиванием частот исследователи вводят спиральную фазовую пластину в луч с длиной 1553 нм, благодаря которой вихревой луч с орбитальным угловым моментом — спиральный лазерный луч — начинает генерироваться.
Таким образом, ученые впервые смогли произвести твердый лазерный луч с длиной волны 193 нм. Он может использоваться для подачи гибридных лазеров аргоконфторида (ARF), используемых в литографии кремниевых пластин, обнаружения дефектов, квантовой запутывания и оптической микроманипуляции. Система предлагает более высокую эффективность и точность в литографии полупроводников и открывает новые возможности для производственных технологий. Генерация вихревого пучка длины волны обещает дальнейшие прорывы в этой области, включая революцию в производстве электроники.
