Новая технология мультифотонной литографии показывает разрешение записей
Китайские исследователи разработали оптимизированный подход к 3D -печати с более высоким разрешением микрофиксов, фотоновых кристаллов, микроптических устройств, метаматериалов и многого другого. Впервые технология многофотонографии с высокой скоростью использовалась для отложения линий только на 100 нм друг от друга на стеклянной площадке.
Мультифотонная литография используется для селективной полимеризации материалов с точностью NANITY с использованием сфокусированного пучка. Увеличение разрешения этого типа 3D -печати — минимальное расстояние между соседними элементами — однако, сложно, поскольку интенсивный лазерный свет может оказывать нежелательное влияние на соседние регионы. Тем не менее, ученые из Университета судей смогли решить эту проблему, используя уникальную оптическую настройку и специалист по фоторесестику, пишет Science Daily.
Они разработали фоторезист — материал, чувствительный к полимеру, — из широко используемого мономера PETA в сочетании с себацинацией (BTPOS). BTPOS играет роль люминесцентного элемента, чтобы уменьшить поперечные цепи, которые могут возникнуть при печати линий высокого разрешения.
Оптическая конфигурация состоит из фемтосекундного лазера 525 нм в качестве источника света возбуждения и 532 нм пикосекундного лазера для задержки. Взаимодействие лучей предотвращает нежелательную полимеризацию и гарантирует, что желаемая модель сформирована с высоким разрешением и точностью. Кроме того, для достижения такого высокого разрешения ученые использовали пространственный световой модулятор, к которому они применили полиномы к Zercma, чтобы регулировать аберрации фронта волны.
В результате новый подход показал рекордный пространственный Разрешение 100 нм со скоростью 100 мкм/с. Кроме того, разрешение не падает ниже 120 нм, когда скорость увеличивается до 1000 мкм/с.
В настоящее время исследователи работают над повышением скорости печати, стремясь достичь скорости 10 и 100 мм/с, сохраняя высокое качество и разрешение. Они также хотят улучшить фоторезистскую систему, чтобы сделать метод мультифотонной литографии более стабильной и практичной.
