Гениальный прорыв: китайские ученые сокращают дефекты производства микрочипов на 99% с помощью криогенной технологии
Исследователи из Пекинского университета Цинхуа и Университета Гонконга разработали метод, позволяющий снизить количество дефектов на этапе фотолитографии при производстве полупроводников более чем на 99%. Работа основана на применении криоэлектронной томографии для анализа химических процессов в реальном времени. Фотолитография — ключевой этап в производстве чипов, при котором светочувствительный фоторезист наносится на кремниевую пластину и обрабатывается ультрафиолетовым…