Intel удалось запустить производство чипов с новейшего оборудования ASML из класса EUV High-Na EUV
В попытке отвлечь аудиторию от слухов о поиске стратегического партнера в производстве чипов, на этой неделе Intel объявила, что он успешно использовал литографические системы последнего поколения, полученные из ASML для производства небольших масштабов. Используя технологию High-Na EUV, компания удалось обработать 30 000 кремниевых тарелок за одну четверть. Intel получила оборудование EUV с высоким уровнем EUV…