Samsung получил литографический сканер для работы с технологией High-Na EUV
В начале марта Samsung предоставила первую производственную инсталляцию для производства чипов следующего поколения в свой кампус в Прассоне. Компания получила оборудование Exe: 5000который использует технологию Литография с высокой na euvС Это передовая технология для экстремальной ультрафиолетовой литографии с более высоким числом диафрагмы. Цена оборудования составляет приблизительно 500 миллиардов долларов (около 500 миллионов долларов). Единственный поставщик этих систем во всем мире — голландская компания ASML.
Новое оборудование может дать Samsung серьезное преимущество в конкуренции за производство чипов с помощью технологического процесса ниже 2 нанометров. В настоящее время Samsung занимает второе место на рынке для производства чипов по контракту с долей 8,1%. В четвертом квартале 2024 года выручка компании от этой области снизилась на 1,4% на ежеквартальной базе до 3,26 млрд. Тайваньских TSMC остался лидером рынка с доли 67%.
Другие основные производители чипов также активно покупают устройства EUV с высоким содержанием NA. Intel приобрела свою первую такую машину у ASML в 2023 году и подписала контракты, чтобы купить еще пять. Компания уже использует первые две машины для производства, обрабатывая около 30 000 кремниевых пластин в квартал. Эти машины предназначены для начала массового производства технологии 18A в конце этого года.
