В полупроводниковой промышленности была создана технология оформления травления.

Исследовательская группа LAM представила первую прочную индустрию травления плазмы. Технология основана на методе точного контроля плазмы — электрически заряженное состояние вещества, используемое при производстве полупроизводных. DirectDrive обещает беспрецедентную точность на уровне нескольких ангстрем и генерирует плазму с чувствительностью в 100 раз выше, чем у его аналогов. Это приводит к значительно меньшему дефектам в моделировании при производстве полупроводников.

Развитие DirectDrive занимает около 20 лет, сообщает IE. В 2006 году инженер Университета Калифорнийского университета Патрик пришел изобретено способом лучшего контроля плазмы в процессе травления полупроводников. Он разрабатывает устройство для быстрого переключения радиочастотной энергии, которая направляет плазму, которая достигает гораздо более точного управления жалобами. Чтобы попробовать эффективность концепции, он собирает прототип системы переключения радиочастотных на своей кухне.

Однако, несмотря на многообещающий характер подхода, компании не готовы принять его. Научные основы не были достаточно развиты, и трансформация кухонного прототипа в надежные промышленные технологии займет слишком много лет работы. Однако он не сдается. В сотрудничестве с физикой Уолтер Хеклман он получает финансирование и находит оборудование для продолжения работы над системой переключения радиочастотных.

Еще десять лет он был привезен, и его команда работала с лазерами и самостоятельным оборудованием. Они измеряют поведение ионов под воздействием плазменных импульсов и отмечают изменения в их свойствах (связанных с движением и плотностью). Во время экспериментов исследователи обнаружили, что быстрые импульсы обеспечивают гораздо лучший контроль над поведением в плазме, чем постоянное влияние радиочастот. Новый метод изменяет мощность плазмы всего за 50 микросекунд, т.е. Десятки тысяч раз быстрее, чем раньше.

«DirectDrive, первая индустрия солидных плазменных генераторов, производит плазму с чувствительностью в 100 раз выше, чем в предыдущих источниках, что приводит к меньшему количеству дефектов в формировании моделей в глубоком ультрафиолете», — говорится в пресс -релизе.