В России разработаны системы производства чипов по 65-нанометровому техпроцессу — они были у Intel 20 лет назад

Впервые в России созданы локальные кластерные системы плазмохимического осаждения и травления, необходимые для производства интегральных схем по технологическому стандарту 65 нм, сообщают «Ведомости». Разработку выполнили научно-исследовательские институты НИИМЭ и НИИТМ, входящие в группу компаний «Элемент». Оборудование предназначено для работы с кремниевыми пластинами диаметром 200 и 300 миллиметров, что соответствует требованиям современных производств.

Следует отметить, что мировые лидеры полупроводниковой индустрии освоили технологический процесс 65 нм еще в 2004 году, а массовое производство чипов на его основе началось в 2006 году – это Intel Pentium 4 (Cedar Mill), Intel Core, Core 2 и Core 2 Duo.

По данным компании, российские институты входят в пятерку мировых организаций, обладающих компетенциями в создании подобных систем. НИИМЭ сыграл важную роль в реализации проекта, обеспечив строительство чистых помещений, установку прототипов, разработку и тестирование технологических процессов. НИИТМ, выступавший ключевым соподрядчиком, отвечал за проектирование самого оборудования и участвовал в его испытаниях.

Заместитель министра промышленности и торговли России Василий Шпак подчеркнул, что мощности по производству чипов 65 нм на кремниевых пластинах диаметром 300 мм отвечают будущим потребностям отечественной микроэлектронной промышленности. Особое значение, по его словам, имеет модульная архитектура платформы, позволяющая внедрять новые процессы на существующих производствах и использовать ее как основу для дальнейшего перехода к освоению последующих, более совершенных технологических стандартов.